F-REX 型是一種安裝在潔凈室上的 CMP 系統(tǒng)，可對晶圓表面進行化學和機械拋光。 它具有經過市場驗證的高可靠性和*的工藝性能，可以以多種方式進行配置以滿足所需的規(guī)格。 雙模塊化設計，工藝腔室之間沒有相互污染。 即使一個模塊停止，也可以自動切換到與另一個模塊一起運行，并且在發(fā)生維護或故障時無需停止設備，從而實現高生產率。 此外，雙模塊系統(tǒng)可通過單個單元實現多流程處理。 我們不僅為大規(guī)模生產提供*設備配置，還為實驗開發(fā)應用提供*設備配置。