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首頁 >高斯摩(成都)國際貿(mào)易有限公司> 技術(shù)文章> EBARA荏原 CMP設(shè)備 F-REX300XA
EBARA荏原 CMP設(shè)備 F-REX300XA
2025/05/13 11:56:17
EBARA荏原 CMP設(shè)備 F-REX300XA
EBARA荏原 CMP設(shè)備 F-REX300XA
CMP設(shè)備,即化學(xué)機械拋光(Chemical Mechanical Planarization)設(shè)備,是一種用于半導(dǎo)體制造、光學(xué)元件加工和材料科學(xué)領(lǐng)域的高精度表面處理設(shè)備。CMP技術(shù)通過化學(xué)腐蝕和機械研磨的結(jié)合,實現(xiàn)對材料表面的全局平坦化處理,是半導(dǎo)體晶圓制造中不可或缺的關(guān)鍵工藝。
工作原理
CMP設(shè)備的核心工作原理是利用化學(xué)腐蝕和機械研磨的協(xié)同作用,去除材料表面的不平整部分。具體過程如下:
化學(xué)作用:拋光液中的化學(xué)試劑與材料表面發(fā)生反應(yīng),生成一層易于去除的軟化層。
機械作用:拋光墊在壓力下旋轉(zhuǎn),通過磨料顆粒的摩擦作用去除軟化層,實現(xiàn)表面平坦化。
清洗與干燥:拋光完成后,通過清洗和干燥步驟去除殘留的拋光液和顆粒,確保表面潔凈。
應(yīng)用領(lǐng)域
半導(dǎo)體制造:用于晶圓制造中的多層布線、淺溝槽隔離(STI)和銅互連工藝。
光學(xué)元件加工:用于透鏡、棱鏡等光學(xué)元件的表面拋光。
材料科學(xué):用于新材料研發(fā)中的表面處理和分析。
EBARA(荏原制作所)是日本*的工業(yè)設(shè)備制造商,成立于1912年,部位于東京。憑借百年技術(shù)積淀,荏原以“為地球環(huán)境和社會基礎(chǔ)設(shè)施提供創(chuàng)新解決方案”為使命,業(yè)務(wù)涵蓋水泵、風(fēng)機、壓縮機、環(huán)保設(shè)備及能源系統(tǒng)等領(lǐng)域,產(chǎn)品以高可靠性、節(jié)能性和*技術(shù)聞名全球。核心業(yè)務(wù)與技術(shù)優(yōu)勢
荏原的核心產(chǎn)品包括:
流體機械:全球*的水泵及系統(tǒng)解決方案,廣泛應(yīng)用于市政供水、工業(yè)循環(huán)、污水處理等領(lǐng)域,其高效節(jié)能設(shè)計顯著降低碳排放。
環(huán)境工程:提供污泥處理、廢氣凈化等環(huán)保技術(shù),助力可持續(xù)發(fā)展。
能源設(shè)備:蒸汽輪機、燃氣壓縮機等產(chǎn)品服務(wù)于石油、化工及新能源產(chǎn)業(yè)。
半導(dǎo)體制造設(shè)備:高純度真空泵等產(chǎn)品支撐電子行業(yè)精密制造。
荏原以“EBARA Excellence”為品質(zhì)標準,通過IoT和AI技術(shù)推動智能化升級,其研發(fā)的“智能泵”可實時監(jiān)控運行狀態(tài),提升能效30%以上。