EV-M202N 日本EBARA 半導體薄膜沉積?干式真空泵

EBARA荏原真空泵在半導體領域的應用

EBARA（荏原）作為全球*的真空技術供應商，其真空泵在半導體制造中廣泛應用于以下關鍵環(huán)節(jié)：

?晶圓制造工藝?

?刻蝕與薄膜沉積?：干式真空泵（如旋片式、螺桿式）用于維持刻蝕機、化學氣相沉積（CVD）設備的真空環(huán)境，確保反應精度?。

?離子注入?：高真空泵（如分子泵）為離子注入機提供潔凈的真空條件，避免雜質(zhì)污染?。

?封裝測試環(huán)節(jié)?

?模塑設備?：真空泵用于去除封裝過程中的氣體，提升芯片密封性?。

?CMP（化學機械拋光）設備?

荏原的干式真空泵為CMP工藝提供穩(wěn)定真空支持，確保晶圓表面平坦化效果?。

?真空系統(tǒng)集成?

大型真空腔室（如ESA70W型號）與真空泵協(xié)同工作，用于半導體生產(chǎn)線的多腔體傳輸系統(tǒng)?。

技術特點與優(yōu)勢

?干式技術?：避免油污染，符合半導體制造對潔凈度的嚴苛要求?。

?高可靠性?：適配高/高真空環(huán)境（10?3至10?12 Torr），滿足*制程需求?

?多級羅茨式??多級串聯(lián)設計?：采用多級羅茨葉片轉子，通過逐級壓縮提高極限真空度（可達10?2 Pa），適用于含粉塵或腐蝕性氣體的環(huán)境?56。

?無接觸嚙合?：轉子間無物理接觸，通過同步齒輪驅動，降低磨損并延長使用壽命。

渦旋式動靜渦旋盤嚙合：通過漸開線型渦旋盤形成連續(xù)壓縮腔，實現(xiàn)無油、低振動運行，極限真空度達10?1 Pa，適用于實驗室和小型設備。

二、性能優(yōu)勢與創(chuàng)新技術

?無污染與耐腐蝕性?采用全密封結構（如陶瓷涂層、不銹鋼材質(zhì)），防止?jié)櫥瓦M入泵腔，確保半導體制造、食品加工等場景的潔凈度?34。

特殊防腐處理（如鍍鎳或PTFE涂層）的泵體，耐受酸性氣體（如Cl?、H?S）和有機溶劑。

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智能控制與能效優(yōu)化?集成變頻調(diào)速系統(tǒng)，根據(jù)負載動態(tài)調(diào)節(jié)電機功率，能耗降低20%以上。

傳感器實時監(jiān)測溫度、振動等參數(shù)，結合物聯(lián)網(wǎng)技術實現(xiàn)遠程故障預警和維護提示。

模塊化與擴展性支持多級串聯(lián)或并聯(lián)，抽速范圍覆蓋10–1000 m3/h，可適配不同真空需求（如半導體前級泵需搭配分子泵使用）。

快速拆卸設計，更換核心部件（如轉子、密封件）耗時縮短至2小時內(nèi)，減少停機損失。

三、典型應用場景

半導體制造刻蝕與沉積工藝：在等離子體刻蝕（如反應離子刻蝕）中抽除腐蝕性氣體?

• ?結構?：活塞在氣缸內(nèi)往復運動，配以閥門控制氣流。

• ?工作流程?：活塞后移時吸氣，前移時壓縮氣體并排出。

• ?特點?：可達到較高真空度，但振動較大。

• ?半導體工業(yè)?：在半導體制造中，渦輪分子泵是制造微電子芯片和半導體器件的關鍵設備。由于半導體工藝需要在高真空環(huán)境下進行，渦輪分子泵通過高效抽氣，確保工藝過程中的高真空度，從而保障半導體產(chǎn)品的質(zhì)量和生產(chǎn)效率?。

• ?光學工業(yè)?：在光學工業(yè)中，渦輪分子泵用于真空鍍膜、真空燒結、真空蒸發(fā)等工藝。其高真空度、低噪音、低震動的特點，使得光學鍍膜等工藝得以高質(zhì)量完成?。

• ?醫(yī)藥工業(yè)?：在醫(yī)藥工業(yè)中，渦輪分子泵主要應用于真空干燥、真空蒸餾、真空濃縮等工藝。通過維持高真空度，有效避免藥品的氧化和變質(zhì)，確保藥品的質(zhì)量和安全性?。

• ?食品工業(yè)?：在食品工業(yè)中，渦輪分子泵用于真空包裝、真空蒸煮等工藝。它能夠快速抽取食品包裝內(nèi)的氧氣，延長食品的保質(zhì)期，同時保持食品的原有口感?。

• ?化工工業(yè)?：在化工工業(yè)中，渦輪分子泵廣泛應用于真空蒸餾、真空干燥、真空濃縮等關鍵工藝。高真空度的維持對于避免化工產(chǎn)品的氧化和變質(zhì)至關重要，渦輪分子泵的高效性能為化工生產(chǎn)提供了有力保障?。

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• ?高能物理研究?：在高能物理研究中，渦輪分子泵用于加速器質(zhì)譜系統(tǒng)等設備中，創(chuàng)造高真空環(huán)境，以確保粒子加速和檢測的準確性?。

• ?其他領域?：渦輪分子泵還廣泛應用于鍍膜、電子、太陽能、真空爐、離子刻蝕、光盤制造、制燈、航空航天、核能源等相關行業(yè)和教學、科研單位。

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